2016年武汉东湖企业专利和集成电路布图设计申请资助,最高不超过1万元/件

发布时间:2016-08-24 14:58:28 点击:1203
2016年武汉东湖新技术开发区管委会关于进一步加强知识产权工作,依据《武汉东湖新技术开发区管委会关于进一步加强知识产权工作的若干意见》(武新规[2015]10号)第二条,针对企业专利和集成电路布图设计申请资助,最高不超过1万元/件。
7号网公告:武汉东湖新技术开发区管委会关于进一步加强知识产权工作,于2016年9月1日-10月31日将对发明2000元/件,实用新型500元/件,外观设计500元/件,PCT专利申请资助标准:10,000元/件,集成电路布图设计申请资助标准:2000元/件,具体通知如下:

一、依据

《武汉东湖新技术开发区管委会关于进一步加强知识产权工作的若干意见》(武新规[2015]10号)第二条。

二、申请条件

(一)申请资助的单位(以下简称:申请单位)应为在东湖开发区工商注册、纳税的企事业单位,多个专利申请人的以第一专利申请人为准。

(二)申请单位在上一年10月1日到当年9月30日(2016年为1月1日-9月30日)内提出中国专利、PCT专利申请或集成电路布图设计申请,并缴纳相关费用,且申请通信地址在东湖开发区区域内。

三、申请材料

1、东湖高新区专利和集成电路布图设计申请资助资金申请表。

2、专利或集成电路布图设计申请受理通知书原件及复印件(加盖公章)。

3、单位营业执照、组织机构代码证、税务登记证和近期中华人民共和国税收通用缴款书原件及复印件(含国税、地税各一份)(加盖公章),科研院所需出具事业单位法人证书和组织机构代码证原件及复印件(加盖公章)。

4、有关费用支出凭证复印件?(由国家知识产权局专利局或武汉代办处或专利代理机构出具的专利或集成电路布图设计申请费、发明专利实审费缴费收据复印件或专利授权证书复印件(加盖公章))。

四、资助或奖励标准

(一)国内专利申请资助标准(港、澳、台地区专利申请参照执行):

    1、发明2000元/件。
    2、实用新型500元/件。
    3、外观设计500元/件。


(二)PCT专利申请资助标准:10,000元/件

(三)集成电路布图设计申请资助标准:2000元/件

五、审核程序

高新区知识产权办对申请单位提交的资料进行审核后,向财政局提出拨款申请,财政局核准后按预算办理拨付手续。

注:东湖开发区财政直接支付申请书及补贴收据(付款单位写:“武汉东湖新技术开发区管理委员会财政局”,付款事由写:“20XX年东湖开发区专利申请资助款”,需填写好拨款金额并盖单位公章及财务专用章。

六、办理时限

每年9月1日-10月31日(节假日除外)。

七、联系咨询

电话:027-67880105   联系人:周麒

八、备注

(一)申请单位必须专款专用,应加强对资助经费的管理,确保资助经费用于本单位专利和集成电路布图设计的创造、运用、保护、管理和表彰等方面,不得挪作他用。

(二)申请单位应按照相关规定和要求接受知识产权办对资助资金使用情况检查,以及财政、审计等部门的监督审计。

(三)申请单位应提供真实有效的材料和凭证,知识产权办有权要求其提交相关说明材料,否则,停止受理或审批其资助申请。对专利申请数量与技术创新能力不相符的企业,知识产权办将等专利授权后再按照申请资助的标准予以资助。

(四)申请单位不得弄虚作假套取、骗取资助资金,有恶意重复申请或者以其它不正当手段提出申请情形的,一经查实,给予通报批评,并追回已拨付的全部资金,自发现之日起取消其五年内享受东湖开发区知识产权资助政策的资格。

(五)本通知由知识产权办负责解释,本通知自发布之日起施行。

 

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